Ferramental de semicondutores. Câmaras de vácuo. Manuseio de wafers.
Equipamentos para fabricação de semicondutores. Câmaras de vácuo, manipuladores de wafers, distribuição de gases e equipamentos de litografia. Inoxidável 316L para ultra-alto vácuo, eletropolido.
Fabricação de semicondutores
Uma superfície lisa (Ra 0,4 µm) não retém contaminantes. Compatível com ultra-alto vácuo. Padrão do setor.
Princípios principais.
316L EP
Câmaras de ultra-alto vácuo. Eletropolidas. Com ensaio de vazamento por hélio.
Coletores em 316L EP
Coletores de gases de processo. Adequados a ultra-alto vácuo.
Diversos
Robôs de manuseio de wafers e efetuadores.
Especial
Mesas de litografia e suportes ópticos.
Ligas especiais
Câmaras de plasma. Materiais especializados.
ISO Class 4-7
Materiais compatíveis com ambiente de sala limpa.
Perguntas frequentes
Uma superfície lisa (Ra 0,4 µm) não retém contaminantes. Compatível com ultra-alto vácuo. Padrão do setor.
As aplicações de ultra-alto vácuo exigem taxa de vazamento de 10⁻⁹ atm·cc/s, verificada por detecção de vazamento com hélio.
Os materiais não podem liberar gases nem gerar partículas. 316L eletropolido, PTFE e determinados plásticos.
Ferramental de semicondutores: 50-1.000 sistemas por ano, tipicamente. Fabricantes de equipamentos.
Certificação de ultra-alto vácuo, certificação de eletropolimento e documentação da taxa de vazamento com hélio.
Protótipo 4-6 semanas. Produção 6-8 semanas. Os ensaios de ultra-alto vácuo acrescentam 2-3 semanas.
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